陶瓷基板孔金属化

采用传统沉铜电镀的陶瓷基板孔金属化方案,容易出现孔内残液、附着力不佳、填铜不饱满等诸多工艺难点。采用铜浆塞孔的技术实现陶瓷基的孔金属化,工艺制程简单、填塞饱满、附着力好、成本极低。

本产品采用微纳米复合铜浆烧结而成,电阻率和可靠性俱佳。通过添加高温粘结剂和特种填料,可以进一步调整孔铜和界面的热膨胀系数,实现高可靠性的孔铜。


产品特点:

Ø 真空塞孔工艺效率高、质量好、成本低

Ø 电阻率接近纯铜实现大电流的有效导通

Ø 低热膨胀系数的孔铜和界面层实现高可靠性


技术参数:

基材

氧化铝

氮化铝

热膨胀系数

6.8 x10-6/K

4.7 x10-6/K

软化点

23

170

尺寸

<182X182mm

<120X120mm

厚度

0.25∽1mm

0.15mm∽0.63mm

孔径

>60μm

>60μm

深径比

<10:1

<10:1

孔边距

>0.1mm

>0.1mm